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　　化學氣相沉積是一種制備材料的氣相生長方法，它是把一種或幾種含有構(gòu)成薄膜元素的化合物、單質(zhì)氣體通入放置有基材的反應室，借助空間氣相化學反應在基體表面上沉積固態(tài)薄膜的工藝技術(shù)。

　　化學氣相沉積是利用氣態(tài)物質(zhì)通過化學反應在基片表面形成固態(tài)薄膜的一種成膜技術(shù)。主要分為四個重要的階段：1、反應氣體向基體表面擴散；2、反應氣體吸附于基體表面；3、在基體表面上產(chǎn)生的氣相副產(chǎn)物脫離表面；4、留下的反應物形成覆層。

　　化學氣相沉積可以通過各種反應形成多種金屬、合金、陶瓷和化合物涂層且控制涂層的密度和涂層純度；涂層的化學成分可以隨氣相組成的改變而變化，從而獲得梯度沉積物或者得到混合鍍層；采用等離子和激光輔助技術(shù)可以顯著地促進化學反應，使沉積可在較低的溫度下進行；繞鍍性能好，可涂覆帶有槽、溝、孔，甚至是盲孔的工件等特點。

　　現(xiàn)代科學和技術(shù)需要使用大量功能各異的無機新材料，這些功能材料必須是高純的，但是，我們過去所熟悉的許多制備方法如高溫熔煉、水溶液中沉淀和結(jié)晶等往往難以滿足這些要求，也難以保證得到高純度的產(chǎn)品。化學氣相淀積是近幾十年發(fā)展起來的制備無機材料的新技術(shù)?；瘜W氣相淀積法已經(jīng)廣泛用于提純物質(zhì)、研制新晶體、淀積各種單晶、多晶或玻璃態(tài)無機薄膜材料。這些材料可以是氧化物、硫化物、氮化物、碳化物，而且它們的物理功能可以通過氣相摻雜的淀積過程精確控制。目前，化學氣相淀積已成為無機合成化學的一個新領域。